Hafnium Tetrachlorid | Hfcl4 Pulver | CAS 13499-05-3 | Fabrikpreis

Kurzbeschreibung:

Hafnium Tetrachlorid hat wichtige Anwendungen als Vorläufer von Hafniumoxid, Katalysator für die organische Synthese, Kernanwendungen und Dünnfilmablagerung, wodurch die Vielseitigkeit und Bedeutung in verschiedenen technologischen Bereichen hervorgehoben wird.

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Produktdetail

Produkt -Tags

Produktbeschreibung

Kurze Einführung

Produktname: Hafnium Tetrachlorid
CAS Nr.: 13499-05-3
Verbundformel: HFCL4
Molekulargewicht: 320.3
Aussehen: weißes Pulver

Spezifikation

Artikel	Spezifikation
Aussehen	Weißes Pulver
HFCL4+ZRCL4	≥ 99,9%
Zr	≤200ppm
Fe	≤ 40 ppm
Ti	≤ 20 ppm
Si	≤ 40 ppm
Mg	≤ 20 ppm
Cr	≤ 20 ppm
Ni	≤25 ppm
U	≤ 5 ppm
Al	≤ 60 ppm

Anwendung

Hafnium -Dioxid -Vorläufer: Hafnium -Tetrachlorid wird hauptsächlich als Vorläufer zur Herstellung von Hafnium -Dioxid (HFO2) verwendet, ein Material mit ausgezeichneten dielektrischen Eigenschaften. HFO2 wird in dielektrischen Hoch-k-Anwendungen für Transistoren und Kondensatoren in der Halbleiterindustrie häufig verwendet. HFCL4 ist für die Herstellung fortschrittlicher elektronischer Geräte von wesentlicher Bedeutung, da sie dünne Filme von Hafnium -Dioxid bilden können.
Organischer Synthesekatalysator: Hafnium -Tetrachlorid kann als Katalysator für verschiedene organische Synthesereaktionen, insbesondere die Olefin -Polymerisation, verwendet werden. Seine Lewis -Säure -Eigenschaften tragen dazu bei, aktive Zwischenprodukte zu bilden, wodurch die Effizienz chemischer Reaktionen verbessert wird. Diese Anwendung ist bei der Herstellung von Polymeren und anderen organischen Verbindungen in der chemischen Industrie wertvoll.
Nukleare Anwendung: Aufgrund seines hohen Neutronenabsorptionsquerschnitts wird Hafnium -Tetrachlorid in Kernanwendungen, insbesondere in Kontrollstäben von Kernreaktoren, häufig eingesetzt. Hafnium kann Neutronen effektiv absorbieren, daher ist es ein geeignetes Material zur Regulierung des Spaltprozesses, das zur Verbesserung der Sicherheit und Effizienz der Erzeugung von Kernenergie beiträgt.
Dünnfilmablagerung: Hafnium-Tetrachlorid wird in CVD-Prozessen (Chemical Dampor Deposition) verwendet, um dünne Filme von Materialien auf Hafniumbasis zu bilden. Diese Filme sind in einer Vielzahl von Anwendungen von wesentlicher Bedeutung, einschließlich Mikroelektronik, Optik und Schutzbeschichtungen. Die Fähigkeit, einheitliche, qualitativ hochwertige Filme einzureichen, macht HFCL4 in fortschrittlichen Herstellungsprozessen wertvoll.