Formel: LuF3
CAS-Nr.: 13760-81-1
Molekulargewicht: 231,97
Dichte: 8,29 g/cm³
Schmelzpunkt: 1182 °C
Aussehen: Weißes Pulver
Löslichkeit: Unlöslich in Wasser, mäßig löslich in starken Mineralsäuren
Stabilität: Leicht hygroskopisch
Mehrsprachig: LutetiumFluorid, Fluorure De Lutecium, Fluoruro Del Lutecio
| Produktcode | 7140 | 7141 | 7143 | 7145 |
| Grad | 99,9999 % | 99,999 % | 99,99 % | 99,9 % |
| CHEMISCHE ZUSAMMENSETZUNG | ||||
| Lu2O3 /TREO (% min.) | 99,9999 | 99,999 | 99,99 | 99,9 |
| TREO (% min.) | 81 | 81 | 81 | 81 |
| Seltene Erden-Verunreinigungen | ppm max. | ppm max. | ppm max. | % max. |
| Tb4O7/TREO Dy2O3/TREO Ho2O3/TREO Er2O3/TREO Tm2O3/TREO Yb2O3/TREO Y2O3/TREO | 0,1 0,2 0,2 0,5 0,5 0,5 0,3 | 1 1 1 5 5 3 2 | 5 5 10 25 25 50 10 | 0,001 0,001 0,001 0,001 0,01 0,05 0,001 |
| Nicht-Seltenerd-Verunreinigungen | ppm max. | ppm max. | ppm max. | % max. |
| Fe2O3 SiO2 CaO Cl- NiO ZnO PbO | 3 10 10 30 1 1 1 | 5 30 50 100 2 3 2 | 10 50 100 200 5 10 5 | 0,002 0,01 0,02 0,03 0,001 0,001 0,001 |
Zu den Hauptanwendungen von Lutetiumfluorid gehören optische Beschichtungen, photokatalytische Hilfsmittel, Faserdotierung, Laserkristalle, Einkristall-Ausgangsmaterial und Laserverstärker.
Optische Beschichtung
Lutetiumfluorid findet eine wichtige Anwendung in der optischen Beschichtung, da es die Leistung und Stabilität optischer Komponenten verbessern kann.
Photokatalytischer Zusatz
Lutetiumfluorid kann als photokatalytisches Mittel verwendet werden, um an der photokatalytischen Reaktion teilzunehmen und die chemische Reaktion zu fördern.
Faserdotierung
Bei der Dotierung optischer Fasern kann Lutetiumfluorid die Leistung optischer Fasern verbessern und ihre Übertragungseffizienz und Stabilität steigern.
Laserkristall- und Einkristall-Rohstoffe
Lutetiumfluorid ist auch ein wichtiger Bestandteil von Laserkristall- und Einkristall-Rohmaterialien, der die Ausgangsleistung und Stabilität des Lasers verbessern kann.
Laserverstärker
In Laserverstärkern kann Lutetiumfluorid den Verstärkungseffekt des Lasers steigern und die Gesamtleistung des Lasersystems verbessern.
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