SI3N4 besitzt eine hohe Reinheit, eine schmale Reichweite Partikelgrößenverteilung und eine größere spezifische Oberfläche;
Hohe Oberflächenaktivität, niedrige Schüttdichte und UV -Reflexionsvermögen beträgt mehr als 95% und die Absorptionsrate des Infrarotbandes über 97% über 97%
Artikel | Reinheit | APS | SSA | Farbe | Kristallbildung | Morphologie | Schüttdichte |
Si3n4 | > 99,9% | 20nm | 93m2/g | Weiß | amorph | sphärisch | 0,09 g /cm3 |
Si3n4 | > 99,9% | 100nm | 65m2/g | Grau weiß | Alpha | Gesicht zentriertes Kubikum | 0,23 g /cm3 |
Si3n4 | > 99,9% | 800 nm | 49m2/g | Graues hellgrün | Alpha | Gesicht zentriertes Kubikum | 0,69 g /cm3 |
Marke | Epoch-Chem |
1) Herstellungsstrukturvorrichtung: Metallurgie, chemische Industrie, Maschinen, Luftfahrt, Luft- und Raumfahrt- und Energieindustrie, um die Kugel- und Rollenlager, das Gleitlager, die Hülle, das Ventil und einen Verschleiß, hohe Temperatur, korrosionsresistente Strukturkomponenten zu verwenden.
2) Oberflächenbehandlung von Metall und anderen Materialien: wie Formen, Schneidwerkzeuge, Turbinenblätter, Turbinenrotor und Zylinderwandbeschichtungen.
3) Verbundwerkstoffe: Metalle, Keramik und Graphitverbundwerkstoffe, Gummi, Kunststoffe, Beschichtungen, Klebstoffe und andere Verbundwerkstoffe auf Polymerbasis.
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